半导体溶液SC-2（Standard Clean 2）是半导体制造过程中常用的清洗溶液之一，与SC-1溶液共同构成了RCA（Radio Corporation of America）清洗工艺的重要组成部分。
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一、组成成分及比例
SC-2溶液通常由去离子水、盐酸（HCl）和过氧化氢（H2O2）按一定比例混合而成。常见的混合比例有6:1:1（去离子水:盐酸:过氧化氢），但也可能根据具体工艺需求有所调整。
二、作用机理
SC-2溶液的主要作用机理包括：
1、去除金属离子：盐酸作为强酸，能够与金属离子反应生成可溶性的金属氯化物，从而去除硅片表面的金属离子污染。
2、氧化作用：过氧化氢在溶液中起到氧化剂的作用，能够氧化一些有机物和无机物，使其转化为可溶性的物质，便于后续冲洗去除。
3、协同作用：盐酸和过氧化氢在溶液中协同作用，能够更有效地去除硅片表面的残留污染物。
三、应用
SC-2溶液在半导体制造过程中主要用于去除硅片表面残留的金属离子和其他污染物，特别是在RCA清洗工艺的第二步中使用。其应用步骤通常包括：
1、预清洗：将硅片浸泡在去离子水中，去除表面的杂质和污染物。
2、SC-1清洗：使用SC-1溶液进行清洗，去除表面的有机物和金属离子等污染物。
3、漂洗：使用去离子水对硅片进行漂洗，去除SC-1溶液残留。
4、SC-2清洗：将硅片浸泡在SC-2溶液中，去除残留的金属离子和其他污染物。
5、最终漂洗：再次使用去离子水对硅片进行漂洗，去除SC-2溶液残留。
四、输送泵
DEBEM半导体专用泵广泛应用于半导体制造、清洗和刻蚀等工艺中，主要用于输送高腐蚀性的半导体溶液，如SPM（硫酸、双氧水和水的混合物）等特别是在需要输送高腐蚀性介质的场合下，其高性能和可靠的输送能力使其成为半导体清洗和其他相关工艺中的关键设备。
五、输送泵的特点
1、安全性高：泵内部通过隔膜将介质与传动机构完全隔离，保证了介质的纯净度，也避免了泄漏问题，提高了泵的安全性和可靠性。
2、耐腐蚀：泵体材质多样，可根据输送介质的特性选择相应的材质，适用于输送强酸强碱的液体。
3、维护简单：泵的结构简单，维修方便，且由于其设计特点，不易损坏，维护成本较低。
六、输送泵的使用注意事项
1、在使用DEBEM半导体溶液SPM输送泵时，应严格遵守操作规程和安全规范，确保人员和设备的安全。
2、定期对泵进行维护和保养，检查泵的运行状态和性能指标，及时发现并解决问题。
3、注意泵的运行环境，避免在过高或过低的温度、湿度等恶劣环境下使用泵类产品。
