半导体溶液SPM是硫酸过氧化氢混合物（Sulfuric Peroxide Mixture）的缩写，主要由浓硫酸和过氧化氢按一定比例混合而成，通常还会加入水来调节浓度和反应条件。
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一、组成成分
• 硫酸（H2SO4）：一种强酸，具有强氧化性和腐蚀性。
• 过氧化氢（H2O2）：一种强氧化剂，常用于清洗和消毒。
• 水（H2O）：用于调节混合物的浓度和反应条件。
二、混合比例
在半导体制造中，SPM的混合比例可能会根据具体工艺需求而有所调整。但通常，浓硫酸和过氧化氢会按一定的体积比进行混合，例如7:3的体积比。此外，还会加入适量的水来稀释混合物，以达到所需的浓度。
三、应用
SPM在半导体制造过程中具有广泛的应用，特别是在RCA清洗方法中。其主要用途包括：
• 去除有机物：SPM的强氧化性能够有效地分解和去除半导体表面的有机物污染。
• 去除光刻胶：在光刻工艺后，SPM可以用于剥离和去除光刻胶。
• 金属污染物的去除：SPM还能去除硅晶片表面的金属污染物，避免由污染引起的电不可操作性和少数载流子寿命的降低。
四、输送泵
DEBEM半导体专用泵广泛应用于半导体制造、清洗和刻蚀等工艺中，主要用于输送高腐蚀性的半导体溶液，如SPM（硫酸、双氧水和水的混合物）等特别是在需要输送高腐蚀性介质的场合下，其高性能和可靠的输送能力使其成为半导体清洗和其他相关工艺中的关键设备。
五、输送泵的特点
1、安全性高：泵内部通过隔膜将介质与传动机构完全隔离，保证了介质的纯净度，也避免了泄漏问题，提高了泵的安全性和可靠性。
2、耐腐蚀：泵体材质多样，可根据输送介质的特性选择相应的材质，适用于输送强酸强碱的液体。
3、维护简单：泵的结构简单，维修方便，且由于其设计特点，不易损坏，维护成本较低。
六、输送泵的使用注意事项
1、在使用DEBEM半导体溶液SPM输送泵时，应严格遵守操作规程和安全规范，确保人员和设备的安全。
2、定期对泵进行维护和保养，检查泵的运行状态和性能指标，及时发现并解决问题。
3、注意泵的运行环境，避免在过高或过低的温度、湿度等恶劣环境下使用泵类产品。
